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学术论文
Enhancement of saturation magnetization in Cr-ion implanted silicon by high temperature annealing
- 发布时间：2020-05-25
- 点击次数：
- 发表刊物：Applied Surface Science 257 (20), 8465– 8468 (2011)
- 通讯作者：Shuang Yang（本科生）, Wenyong Zhang, Jihong Chen, Zhongpo Zhou, Zhiwei Ai, Liping Guo*(通讯作者), Congxiao Liu, Honglin Du.
- 是否译文：否
- 收录刊物：SCI