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Enhancement of saturation magnetization in Cr-ion implanted silicon by high temperature annealing

  • 发布时间：2020-05-25
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  • 发表刊物：Applied Surface Science 257 (20), 8465– 8468 (2011)
  • 通讯作者：Shuang Yang（本科生）, Wenyong Zhang, Jihong Chen, Zhongpo Zhou, Zhiwei Ai, Liping Guo*(通讯作者), Congxiao Liu, Honglin Du.
  • 是否译文：否
  • 收录刊物：SCI

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