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郭宇铮
学科: 材料物理与化学
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学历:博士研究生毕业
毕业院校:剑桥大学
电子邮箱:yguo@whu.edu.cn
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论文成果
Hydrogen and the Light-Induced Bias Instability Mechanism in Amorphous Oxide Semiconductors
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DOI码:
10.1038/s41598-017-17290-5
发表刊物:
Scientific Reports
卷号:
7
是否译文:
否
发表时间:
1905-07-09
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Band edge states, intrinsic defects, and dopants in monolayer HfS2 and SnS2
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