AlN/diamond interface nanoengineering for reducing thermal boundary resistance by molecular dynamics simulations
发布时间：2024-11-13
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- 所属单位：
- 武汉大学
- 发表刊物：
- Applied Surface Science
- 合写作者：
- Qi Z J#, Shen W#, Li R, Sun X, Li L J, Wang Q J, Wu G*, Liang K*
- 论文类型：
- 期刊论文
- 卷号：
- 615
- 页面范围：
- 156419
- 是否译文：
- 否
- 发表时间：
- 2023-01-12
- 收录刊物：
- SCI