Investigation into photolithography process of FPCB with 18 µm line pitch
发布时间：2024-11-13
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- 所属单位：
- 武汉大学
- 发表刊物：
- Micromachines
- 合写作者：
- Sun K, Wu G*, Liang K*, Sun B, Wang J
- 论文类型：
- 期刊论文
- 卷号：
- 14
- 期号：
- 5
- 页面范围：
- 1020
- 是否译文：
- 否
- 发表时间：
- 2023-05-10
- 收录刊物：
- SCI