
其他联系方式
邮编:430072
通讯/办公地址:武汉大学工学部7教206室
移动电话:15927547164
邮箱:zywhuee@whu.edu.cn

论文成果
Effect of SiO2 nano film deposited on Copper and Aluminum electrode on power frequency breakdown voltage of SF6 gas
- 发布时间:2024-07-24
- 点击次数:
- 发表刊物:High Voltage
- 论文类型:SCI
- 学科门类:工学
- 文献类型:J
- 卷号:8
- 期号:4
- 页面范围:791-789
- 是否译文:否
- 发表时间:2023-07-01
- 收录刊物:SCI
